紫外線酸化装置は主に超純水製造設備に使用されます。近年微細化された半導体・ウエハー・液晶パネル製造等において、歩留まりを高く維持するためには、TOC（有機物）をはじめとする水中の不純物を限りなく取り除かれた超純水が必要となります。
紫外線酸化装置は後段のイオン交換樹脂とともに超純水を製造するために必要不可欠な装置で多くのエレクトロ二クス工場で使用されております。
■代表的な分子の化学結合エネルギー
■主波長のエネルギー量
■分解式
高効率・省エネルギーでコストパフォーマンスの高い新シリーズ
FOVシリーズ（縦置き）
高出力低圧水銀ランプから発生する真空紫外線（184.9nm）を効率よく照射し、水中の有機物を酸化分解する装置です。ppbオーダーのTOCを低減させるのに適しています。
＊設置スペースと処理量、ご希望のTOC濃度に応じて機種を選定いたします。
オゾン水は近年、その強力な酸化力を利用し、半導体工場及び液晶工場等において洗浄用水として多く利用されております。しかし、使用後の有害なオゾン水は低濃度であっても人体に有害であり、配管中のパッキン等を劣化させるなど設備への負担が大きいため、速やかな分解が必要になります。ORシリーズは、高濃度オゾン水を短時間で1ppm以下に分解する事ができます。また、ランニングコスト・メンテナンス頻度の低減に有効です。
■ご使用例
活性炭での吸着の代替としてご利用いただけます。
高濃度、大流量の装置も対応可能です。
数多くの分解実績があります。
＊処理量とオゾン濃度に応じて機種を選定いたします。
低圧水銀ランプから照射される真空紫外線（184.9nm）により酸素（O₂）をオゾン化（O₃）する装置です。
窒素酸化物を生成しないため、クリーンなオゾンを簡単に作れ、人体に対し喉や気管に悪影響を与える光化学スモッグ、大気汚染の原因になりません。
オゾン発生量：0.25～2.0ｇ/ｈ
小型でコンパクトサイズです。
消費電力が少なく、維持費が安価です。