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殺菌装置

表面検査ランプ

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酸化装置

半導体産業で使用される水は、ますます高純度化され、超純水中の有機物(TOC)濃度に対する要求値も厳しくなっています。真空紫外線(185nm)の照射により生成された・OHラジカルは非常に強い酸化力を有し、この酸化力を有機物の酸化分解に利用するのが紫外線酸化装置です。FOVシリーズは高出力低圧水銀ランプから発生する真空紫外線を効率良く照射し、水中の有機物を酸化分解する装置です。ppbオーダーのTOCを低減させるのに適しています。

酸化装置

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